ANALISIS LAPISAN PELINDUNG KOROSI PADUAN Al-Mg-Si YANG DILAPISI LOGAM TANAH JARANG - Darajati, Rusdiana; Ihsan, Mohammad; Wuryanto, Wuryanto (Jurnal Sains Materi Indonesia, 2001)
ANALISIS LAPISAN PELINDUNG KOROSI PADUAN Al-Mg-Si YANG DILAPISI LOGAM TANAH JARANG. Telah dilakukan serangkaian analisis korosi pada paduan Alâ€”Mg-Si yang sudah diberi lapisan pelindung tahan korosi oksida tanah jarang yang digabung dengan ï¬lm oksida aluminium yang seragam yang terbentuk pada permukaan paduan aluminium. Teknik pengujian korosi yang digunakan adalah E corr terhadap waktu, tahanan polarisasi, potensiodinamik dan SEM (ScanningElectrom Microscope) untuk analisis pennukaan. Potensial korosi bebas sampel dalam medium air umumnya meningkat terhadap waktu kecuali sampel yang dimasukkan ke dalam larutan triethanolamine. Dalam medium HCl (pH=l) potensial korosi bebas sampel AlMgSi, sampel AlMgSi yang dimasukkan ke dalam larutan triethanolamine, dan sampel Al MgSi yang dimasukkan ke dalam larutan triethanolamine dan CeCl3 cenderung meningkat terhadap waktu sedangkan sampel AlMgSi yang dimasukkan ke dalam larutan triethanolamine dan YCl3 atau RECl3 cenderung menurun terhadap waktu. Sedangkan potensial korosi bebas sampel dalam medium NaOH (pH=13) cenderung meningkat terhadap waktu. Laju korosi sampel AlMgSi yang dimasukkan ke dalam larutan triethanolamine dalam medium air relatifpaling kecil (0,0205 mpy), dalam medium HCl (pH=1)dan NaOH (pH=13) laju korosi sampel AlMgSi yang dimasukkan ke dalam larutan triethanolamine dan YCl3 relatif paling kecil, masing-masing adalah 0,1157 mpy dan 2468,26 mpy. Sampel AlMgSi yang dimasukkan ke dalam larutan triethanolamine dan RECl3 dalam medium air mengalami pasivasi dan transpasivasi sedangkan keempat sampel yang lain tidak mengalami pasivasi, dalam medium HCl (pH=1), kelima sampel umumnya mengalami pasivasi pada daerah densitas arus yang sama dan dalam medium NaOH (pH=13) sampel AIMgSi mengalami transpasivasi pada potensial 800 mV, sementara keempat sampel yang lain mengalami pasivasi pada potensial antara ~850-1500 mV. Analisis dengan SEM menunjukkan bahwa lapisan pelindung yang dibentuk pada permukaan sampel kurang dapat melindungi sampel terutama dalam medium HCl (pH=l) dan dalam medium NaOH (pH=13).