ELEKTRODEPOSISI LAPISAN KOMPOSIT Cu-Al2O3 DALAM LARUTAN CuSO4 YANG DIDOPING DENGAN PARTIKEL NANO Al2O3 - Widiani Agustin; Pradoto Ambardi; Djoko H. Prajitno (Jurnal Sains Materi Indonesia, 2013)
ELEKTRODEPOSISI LAPISAN KOMPOSIT Cu-Al2O3 DALAM LARUTAN CuSO4 YANG DIDOPING DENGAN PARTIKEL NANO Al2O3. Lapisan komposit Cu-Al2O3 dibuat dengan menggunakan proses elektrodeposisi. Pada lapisan komposit ini, lapisan Cu berperan sebagai matriks komposit sedangkan nanopartikelAl2O3 berperan sebagai partikel penguat komposit (reinforcement). Lapisan komposit ini merupakan kelompok komposit bermatriks logam (MetalMatrix Composite). Proses elektro deposisi dilakukan pada media larutan elektrolit CuSO4, sedangkan arus listrik di suplai melalui rectifier (DC Current). Katoda yang digunakan pada proses ini adalah pelat Alumunium AA1100 dan anoda berupa grafit atau karbon. Besarnya arus yang digunakan pada proses ini adalah 0,3 A, sedangkan konsentrasi nanopartikel Al2O3 yang ditambahkan pada larutan elektrolit adalah 0,05 g/L. Proses dilakukan pada suhu kamar dan ukuran partikel nano yang digunakan adalah 50 nm. Variasi waktu proses elektrodeposisi adalah 15 menit, 30 menit dan 60 menit dan variasi konsentrasi larutan CuSO4 adalah 200 g/L, 220 g/L dan 240 g/L CuSO4 . Untuk mengetahui peranan dari nanopartikel yang ditambahkan, maka dilakukan beberapa pengujian dan pemeriksaan laboratorium seperti pengujian kekerasan, pemeriksaan strukturmikro. Pemeriksaan Scanning Electron Microscope (SEM) dan pengujian Electron Dispersive Spectroscopy (EDS). Pembuatan lapisan komposit ini bertujuan untuk mendapatkan karakteristik lapisan yang sifat mekaniknya lebih baik.