Pengaruh Konsentrasi Hipofosfit dan Waktu Pelapisan terhadap Karakteristik Mikrostruktur Lapisan Electroless Ni-P - Arini Nikitasari; Efendi Mabruri (Balai Besar Bahan dan Barang Teknik, 2017)
The effect of various hypophosphite concentration and plating time on the microstructure characteristics of Ni-P electroless deposited coating is presented. The substrate used in this research was martensitic stainless steel. The microstructure characteristics were investigated for hypophosphite concentration (10 g/L; 20 g/L; 30 g/L) and plating time (30 min, 60 min, 120 min, 180 min) using scanning electron microscope (SEM). It was evaluated that morphology of Ni-P electroless coating is spheroidal. Grain size and structure density increased with plating time. Phosphor content of coating increased with hypophosphite concentration and plating time. The optimum nickel content is hypophosphite with concentration of 20 g/L. Layer thickness was proportional to the plating time. Hypophosphite concentration of 20 g/L and plating time of 120 min were the optimum condition for coating due to the uniformity of microstructure and component distribution.Pengaruh variasi konsentrasi hipofosfit dan waktu pelapisan terhadap karakteristik mikrostrukur lapisan electroless Ni-P disajikan dalam artikel ini. Material yang digunakan pada penelitian ini adalah martensit stainless steel 420. Karakteristik mikrostruktur yang diteliti untuk konsentrasi hipofosfit (10 g/L; 20 g/L; 30 g/L) dan waktu pelapisan (30 min, 60 min, 120 min, 180 min) menggunakan scanning electron microscope (SEM). Diperoleh hasil bahwa morfologi lapisan electroless Ni-P yang terbentuk berbentuk bulat. Ukuran butir dan kerapatan struktur bertambah seiring dengan peningkatan waktu pelapisan. Kadar fosfor dalam lapisan meningkat dengan kenaikan kandungan hipofosfit dan waktu pelapisan. Kadar nikel dalam lapisan yang paling optimal adalah hipofosfit dengan konsentrasi 20 g/L. Ketebalan lapisan berbanding lurus dengan waktu pelapisan. Konsentrasi hipofosfit 20 g/L dan waktu pelapisan 120 menit adalah kondisi optimum untuk pelapisan karena menghasilkan lapisan dengan mikrostruktur dan distribusi komponen yang seragam.