PENENTUAN KEHALUSAN LAPISAN TIPIS Ni80Fe20 MELALUI NILAI KAPASITANSI LAPISAN PADA UNTAI TAPIS R-C LOLOS RENDAH - Moh. Toifur; Venty Aghnani Nurhamidy; Sujatmoko Sujatmoko (Center for Science & Technology of Advanced Materials - National Nuclear Energy Agency, 2005)
PENENTUAN KEHALUSAN LAPISAN TIPIS Ni80Fe20 MELALUI NILAI KAPASITANSI LAPISAN PADA UNTAI TAPIS R-C LOLOS RENDAH. Telah dilakukan penelitian tentang watak kapasitif lapisan tipis Ni80Fe20 hasil deposisi dengan teknik sputtering pada variasi medan deposisi dari 0 G sampai dengan 600 G. Penelitian bertujuan untuk mengetahui tingkat kehalusan lapisan dengan menentukan nilai kapasitor dalam lapisan jika porositas dalam lapisan diperlakukan sebagai kapasitor, serta unjuk kerja lapisan sebagai tapis lolos rendah. Rangkaian terdiri dari tahanan R = 769,9 ohm yang dihubungkan secara seri dengan lapisan dan dipasok tegangan AC dari AFG. Pengamatan watak kapasitif dilakukan pada frekuensi 100 kHz sedangkan pengamatan frekuensi potong dilakukan pada frekuensi 100 kHz sampai dengan 1000 kHz. Tegangan output dan input diamati melalui osiloskop. Dari karakterisasi watak kapasitif menunjukkan bahwa semua lapisan menunjukan watak kapasitif. Sampel hasil deposisi pada Bdep = 300 G memiliki kapasitansi terkecil yaitu 0,09 pF, hal mana menunjukkan lapisan yang paling halus dibanding lapisan yang lain. Lapisan ini dapat menapis frekuensi hingga 253,5 Hz.