PENGARUH PENGOTOR Co PADA STRUKTUR DAN KONDUKTIVITAS FILM TIPIS TiO2 - Aip Saripudin; Tjetje Gunawan; Yuda Muladi (Universitas Pendidikan Indonesia, 2013)
Film tipis TiO2 (titanium dioksida) dan Co:TiO2 (titanium dioksida yang dikotori oleh atom kobal) telah ditumbuhkan di atas substrat Si(100) menggunakan teknik MOCVD (metal organik chemical vapor deposition). Film masing-masing ditumbuhkan pada suhu substrat 450oC selama 120 menit dengan tekanan kamar reaktor 2 ´ 10-3 torr. Film TiO2 dan Co:TiO2 yang dihasilkan memiliki struktur kristal tetragonal (a = b = 4,7172 Å, c = 3,0063 Å) berfase rutil dengan orientasi dominan pada (002) dan ukuran bulir rata-rata 170 nm. Permukaan film cukup halus dan merata. Berdasarkan hasil pengukuran menggunakan metode Hall van der Pauww, terjadi perbedaan konduktivitas antara film TiO2 dan Co:TiO2.