<![CDATA[Nanoteknologi adalah teknologi terbaru yang sangat menjanjikan untuk masa depan yang memiliki banyak aplikasi potensial dan aktual pada perangkat nanoelektronik. Namun, untuk mendapatkan manfaat pada nanoteknologi diperlukan teknologi canggih itu sendiri. Masalah utama fabrikasi perangkat nanoelectronic adalah skalanya yang kecil, area yang kecil, volume yang kecil dan konsentrasi yang rendah. Pembuatan dalam skala nano memunculkan masalah tidak hanya pada kinerja, tetapi juga biaya untuk industri elektronik. Untuk mengatasi masalah ini, kami mempelajari profil kontak logam. Kami menyajikan profil aluminium (Al) untuk mendapatkan sifat-sifat yang diharapkan dan juga efektif dalam hal biaya, karena aluminium banyak digunakan dalam banyak aplikasi elektronik seperti spintronics, sel surya, transistor film tipis, dan bahkan untuk fotokatalis. Dalam penelitian ini, Al dievaporasikan oleh termal evaporator. Sifat struktural film Al dikarakterisasi menggunakan XRD, AFM, dan FESEM. Sifat kelistrikan dikarakterisasi menggunakan Four-point probe. Hasilnya menunjukkan peningkatan ketebalan menyebabkan penurunan resistivitas dan ukuran strain film Al serta meningkatkan biaya.]]>
Copyrights © 2020
