Pengaruh Temperatur Deposisi terhadap Struktur dan Sifat Optik Film Tipis ZnO:Al dengan metode DC Magnetron Sputtering

Sugianto Sugianto (Jurusan Fisika, Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam Universitas Negeri Semarang, Kampus Sekaran, Gunung Pati, Semarang, 50229)
Putut Marwoto (Jurusan Fisika, Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam Universitas Negeri Semarang, Kampus Sekaran, Gunung Pati, Semarang, 50229)
Budi Astuti (Jurusan Fisika, Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam Universitas Negeri Semarang, Kampus Sekaran, Gunung Pati, Semarang, 50229)
Rofiatul Zannah (Jurusan Fisika, Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam Universitas Negeri Semarang, Kampus Sekaran, Gunung Pati, Semarang, 50229)
Yanti Yanti (Jurusan Fisika, Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam Universitas Negeri Semarang, Kampus Sekaran, Gunung Pati, Semarang, 50229)

JURNAL FISIKA
Vol 5, No 2 (2015)

Film tipis zinc oxide doping aluminium (ZnO:Al) telah dideposisikan di atas substrat corning glass dengan metode DC magnetron sputtering. Penumbuhan dilakukan dengan memvariasi temperatur deposisi (27°C, 200oC, 300oC, dan 400°C). Analisis X-ray diffraction (XRD) menunjukkan struktur kristal wurtzite dengan orientasi sumbu-c. Ukuran butir kristal meningkat dari 35 nm sampai 52 nm. Analisis scanning electron microscopy (SEM)  menunjukkan bahwa ukuran butir bertambah besar dengan bertambahnya temperatur deposisi. Peningkatan temperatur deposisi juga menyebabkan peningkatan nilai transmitansi dari 70% sampai 83%  dengan tepi absorpsi pada panjang gelombang sekitar 380 nm.