<![CDATA[Telah dilakukan elektrodeposisi lapisan tipis TiO2 di atas substrat ITO (Indium Tin Oxide) dengan menggunakan larutan elektrolit TiCl4 (Titanium (IV) klorida) dan katalis H3BO3 (Boric Acid). Â Didapatkan hasil karakterisasi XRD pada lapisan tipis TiO2 Â yang dideposisi menggunakan 1.5M TiCl4 tanpa menggunakan katalis H3BO3 berada dalam fase anatese sedangkan lapisan tipis TiO2 yang dideposisi menggunakan 1.5M TiCl4 dengan menggunakan katalis H3BO3 berada dalam fase rutile. Â Spektrum UV-Vis menunjukkan lapisan tipis TiO2 dalam fase anatase memiliki energi gap sebesar 3,25 eV sedangkan dalam fase rutile memiliki energi gap sebesar 3,7 eV. Â Hasil karaktarisasi SEM menunjukkan bahwa elektrodeposisi lapisan tipis TiO2 menghasilkan morfologi permukaan yang lebih halus pada sampel tanpa menggunakan katalis dibandingkan dengan elektrodeposisi sampel yang menggunakan katalis.. Â Berdasarkan hasil yang diperoleh, maka deposisi lapisan tipis TiO2 ini dapat dijadikan acuan untuk pemanfaatan pada aplikasi sel surya DSSC.]]>
Copyrights © 2013
