Article Per Year (5 Year)
p-Index From 2020 - 2025
0
P-Index
This Author published in this journals
All Journal SMARTICS Journal
E. E Yunata
Shibaura Institute of Technology, Tokyo, Jepang
Computer Science & IT Control & Systems Engineering Decision Sciences, Operations Research & Management Electrical & Electronics Engineering

Published : 1 Documents Claim Missing Document
Claim Missing Document
Check
Articles

Found 1 Documents
Search

 1 
Simulasi 1D Pengaruh Tekanan Terhadap Densitas Elektron pada Plasma Argon DC Bias Discharge Muhammad Ghufron; E. E Yunata; T. Aizawa
SMARTICS Journal Vol 2 No 1: Smartics (April 2016)
Publisher : Universitas PGRI Kanjuruhan Malang

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | Full PDF (3893.983 KB)

Abstract

Abstract—Telah dilakukan simulasi 1D plasma Argon dengan mengggunakan pembangkit DC Bias. Simulasi dilakukan menggunakan software Comsol Multiphysics dimana pada simulasi asumsi suhu dijaga konstan 400K dan tekanan rendah dibawah 80 Pa. Simulasi dilakukan untuk mengetahui distribusi plasma Argon di dalam chamber ketika generator DC Bias diaplikasikan pada gas netral Argon di dalam chamber. Hasil simulasi menunjukkan bahwa distribusi densitas plasma (ne, ni) tertinggi diketahui terletak sangat dekat dengan elektroda negatif dan semakin mengecil secara eksponensial menuju ground. Hal ini di dukung juga dari distribusi temperatur elektron (Te) yang memiliki tren yang sama. Pada variasi tekanan diketahui bahwa dengan menaikkan tekanan gas di dalam chamber mampu menaikkan densitas plasma secara linear. Kata Kunci— Comsol Multiphysics, Plasma, Plasma Argon dan DC Bias Discharge. 
Co-Authors Muhammad Ghufron T. Aizawa