<![CDATA[Telah dilakukan penelitian pembentukan lapisan komposit Ni-TiAlN/Si3N4 untukmengkaji pengaruh temperatur terhadap morfologi lapisan. Proses pelapisan menggunakan metode elektrodeposisi dengan arus sebesar 5 mA selama 15 menit. Lapisan komposit ini terbentuk pada substrat tungsten karbida dengan komposisi larutan elektrolit yang terdiri dari 6 g/L AlN, 6 g/L TiN, 40 g/L H3BO3, 0.6 g/L Si3N4, 0.17 M NiCl2.6H2O, 0.38 M NiSO4.6H2O dan 0,6 g/L Sodium Dodecyl Sulfate. Variasi temperatur yang digunakan 35°C, 40°C dan 45°C. Penelitian ini menggunakan Karakterisasi Scanning Electron Microscopy (SEM) yang menunjukan bahwa semakin besar variasi temperatur maka morfologi permukaan lapisan komposit Ni-TiAlN/Si3N4 yang terbentuk semakin tidak merata, bentuk butiran lebih kasar dan tidak homogen. Research was conducted on coating process of the Ni-TiAlN/Si3N4 composite film to study the effect of various temperature on the surface morphology of the Ni-TiAlN/Si3N4 composite film. The coating process was conducted by electrodeposition method with a 5 mA of current for 15 minutes on tungsten carbide substrate with electrolyte solution that consists of 6 g/L AlN, 6 g/L TiN, 40 g/L H3BO3, 0.6 g/L Si3N4, 0.17 M NiCl2.6H2O, 0.38 M NiSO4.6H2O dan 0,6 g/L Sodium Dodecyl Sulfate. Variations temperature is 35°C, 40°C and 45°C The composite film morphology was characterized by Scanning Electron Microscopy (SEM). The results showed that as temperature increased, the Ni-TiAlN/Si3N4 composite film morphology was formed increasingly uneven, has coarser grain shape and not homogenous.]]>
