Claim Missing Document
Check
Articles

Found 1 Documents
Search

Penumbuhan Partikel Cu Menggunakan Fix Current Electroplating Dan Aplikasinya Pada Solar Cell Berbahan Dasar Tio2 Mayanisa Nurfithri; Mamat Rokhmat; Ismudiati Puri Handayani
eProceedings of Engineering Vol 3, No 2 (2016): Agustus, 2016
Publisher : eProceedings of Engineering

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar

Abstract

Dalam rangka mengembangkan sel surya sebagai energi terbarukan yang memanfaatkan cahaya matahari, maka dilakukan upaya optimalisasi terhadap material yang digunakan untuk mendapatkan kinerja sel surya yang baik. Salah satu sel surya yang banyak dikembangkan adalah sel surya berbahan dasar Titanium Dioksida (TiO2) yang dapat dimanfaatkan sebagai material atau lapisan aktif penyerap foton dari cahaya matahari, memiliki harga yang murah dan dapat difabrikasi dengan metode yang sederhana. Tetapi kendala yang dimiliki TiO2  adalah nilai band gap yang besar sekitar 3,2 eV, yang meyebabkan efisiensi yang dihasilkan rendah. Untuk meningkatkan efisiensi, maka pada penelitian ini dikembangkan sel surya berbahan dasar TiO2 dengan elektroplating Cu. Deposisi TiO2 terhadap substrat FTO dilakukan dengan metode spray dan dilakukan penyisipan Cu dengan metode elektroplating menggunakan sumber arus. Variasi nilai sumber arus dan waktu yang digunakan dalam metode elektroplating   merupakan parameter yang mempengaruhi efisiensi sel surya. Penelitian ini menunjukkan bahwa efisiensi yang dihasilkan oleh sel surya bergantung pada kandungan Cu yang terbentuk akibat nilai sumber arus dan lamanya waktu yang digunakan dalam metode elektroplating. Setelah dilakukan variasi sumber arus dan waktu elektroplating, didapatkan hasil efisiensi tertinggi sebesar 0,29% pada saat TiO2 di elektroplating selama 30 detik dengan arus 10 mA. Kata kunci: Elektroplating , Sel Surya, TiO2, Tembaga (Cu) , Efisiensi