<![CDATA[Abstrak Tugas akhir ini mempelajari tentang lapisan MoS2 yang dideposisi di atas substrat PET, ITO/PETdan SiO2 dengan menggunakan dua metode yaitu drop casting dan spin coating. Untuk mendapatkanlapisan MoS2 yang tipis dan merata maka perlu dilakukan optimasi parameter spin coating yang baik. Padapenelitian ini, kecepatan putar dan lama waktu putar (pick dwell) divariasikan untuk mengoptimasi sebaranlapisan yang dapat mempengaruhi sifat optik dan listrik. Lapisan MoS2 yang dideposisi denganmenggunakan cara spin coating menghasilkan lapisan yang lebih tipis dibandingkan dengan cara dropcasting. Untuk deposisi dengan spin coating sebaran MoS2/PET terlihat lebih banyak celah dibandingkandengan sebaran lapisan MoS2/ITO/PET dan MoS2/SiO2. Lapisan MoS2/PET menghasilkan ketebalan rataratasebesar7nmsedangkanlapisanMoS2/ITO/PETmenghasilkanketebalanrata-ratasebesar5nm.Jikawaktuputarlebihsingkatmakadiperolehlapisanyangtebal.PadasaatkecepatanputarmeningkatmakalapisanMoS2yangdihasilkanlebihtipis.PengukuransifatlistrikdilakukandengancaramengamatikurvakarakteristikI-V lapisan MoS2 pada substrat. Proses deposisi tidak terlalu mempengaruhi sifat listrikdibandingkan dengan jenis substrat yang digunakan. Kata kunci : MoS2, PET, ITO/PET, SiO2, drop casting, spin coating. Kata Kunci: MoS2, PET, ITO/PET, SiO2, drop casting, spin coating This final project studies the MoS2 layer deposited on PET, ITO / PET and SiO2 substrates using twomethods, namely drop casting and spin coating. To get a thin and evenly distributed MoS2 layer, a good spincoating parameter optimization is needed. In this experiment, the rotating speed and pick dwell were varied inorder to optimize the layer distribution. Which might affect optical and electrical properties. The deposited MoS2layer using spin coating results in a thinner layer thickness than the drop casting method. The distribution ofMoS2 / PET has more gaps between two layers compared to the distribution of MoS2 / ITO / PET and MoS2 /SiO2 layers. The average thickness of the MoS2 / PET layer & MoS2/ITO layers are 7 nm and 5 nm, respectively.The shorter the pick dwell, the thicker the layer. The thickness decreases with the increasing of the spin coatingrotating speed. Electrical characteristic measurement was being done by observing I-V characteristic curve ofMoS2 layer on each substrates. Deposition methods do not influence significantly the electrical propertieswhich are more dependent on substrat types. Keywords : MoS2, PET, ITO/PET, SiO2, drop casting, spin coating.]]>
