<![CDATA[Abstrak: Silika thin film dihasilkan dengan menggunakan proses sol gel menjadi bahan keramik anorganik melalui hidrolisis dan reaksi kondensasi. Proses ini bertujuan untuk membentuk sol silika yang memberikan struktur jaringan yang kuat yang dapat diterapkan sebagai film tipis pada fabrikasi membran. Proses ini dilakukan dengan mencampur tetra etil ortosilikat (TEOS) sebagai prekursor utama, etanol dan H2O sebagai pelarut dan asam sitrat sebagai katalis. Konsentrasi asam sitrat yang digunakan yaitu 0,001 % dan 0,005 %. Proses ini dilakukan selama 3 jam pada suhu 0 °C. Sols dikeringkan dalam oven dan dikalsinasi dalam berbagai suhu (200, 250 dan 400°C) untuk mengetahui rantai karbon dalam matriks silika. Pengaruh karbon dalam struktur silika kemudian di analisis dengan FTIR dan TGA.Hasil panjang gelombang yang ditunjukan oleh Infra Red diketahui bahwa katalis yang optimum digunakan sebagai yaitu konsentrasi asam sitrat 0,001 %, karena pada konsentrasi tersebut silanol yang dihasilkan tidak begitu besar jadi dapat menghasilkan ukuran mesopori pada matrik silika dan pH yang dihasilkan adalah 6 sehingga efektif diaplikasikan sebagai pelapis membran. Adapun hasil TGA menunjukkan bahwa suhu kalsinasi optimum yaitu pada 400°C karena terjadi stabilitas termal yang baik, selain itu ikatan karbon juga masih ada pada matriks silika. Kata kunci: Silika thin film, sol gel, prekursor, kalsinasi, katalis.]]>
Copyrights © 2018
