<![CDATA[Penelitian ini dilakukan untuk mengetahui pengaruh penambahan aditif MEA terhadap kualitas lapisan tipis CuO yang disintesis menggunakan metode sol gel dipcoating. Penentuan band gap optimum lapisan tipis CuO dikarakterisasi menggunakan UV-DRS. Dalam pembuatan lapisan tipis CuO ini menggunakan volume zat aditif MEA yang bervariasi yaitu 1,0 ml, 1,5 ml, 2,0 ml, 2,5 ml, dan 3,0 ml. Nilai bandgap optimum yang telah didapatkan yaitu pada volume MEA 2,5 ml, dikatakan optimum karena nilai band gap yang didapatkan paling mendekati range terkecil band dari yang lainnya. Hasil band gap berturut-turut yang diperoleh yaitu, 1,36 eV, 1,34 eV, 1,29 eV, 1,26 eV, 1,24 eV dan 1,16 eV. Dari hasil yang telah di uji nilai bandgap lapisan tipis CuO mengalami penurunan, dibandingkan dengan tanpa zat aditif monoethanolamine (MEA). Bandgap optimum dari hasil karakterisasi UV-DRS adalah pada variasi penambahan volume MEA 2,5 mL yaitu dengan band gap 1,24 eV. Dikatakan optimum karena nilai bandgap yang didapatkan paling mendekati range terkecil band dari yang lainnya. Penambahan variasi monoethanolamine menyebabkan adanya pengaruh lapis tipis yang dihasilkan yaitu terjadinya penyempitan celah pita energi yang dapat menyebabkan ukuran butiran partikel semakin kecil sehingga luas permukaan juga semakin besar.]]>
Copyrights © 2024
