<![CDATA[Teknik elektrodeposisi umumnya diterapkan untuk memperoleh penampilan fisik, kekuatan struktural, dan keawetan logam yang baik. Tujuan penelitian ini untuk mengetahui potensial optimum pada elektrodeposisi tembaga(II). Elektrodeposisi menggunakan larutan elektrolit CuSO4 sebagai sumber ion tembaga(II), H2SO4 sebagai elektrolit pendukung, dan HNO3 sebagai depolarisator. Lempeng platina digunakan sebagai elektroda (katoda dan anoda) dengan variasi beda potensial yaitu 2, 3, 4, 5, dan 6 Volt selama 25 menit. Selama proses elektrodeposisi, peningkatan beda potensial larutan CuSO4 mempercepat pengendapan logam Cu, namun deposit yang dihasilkan kualitasnya semakin menurun (banyak yang terbakar dan tidak menempel kuat di katoda). Hasil penelitian menunjukkan bahwa kondisi elektrodeposisi optimum dicapai pada beda potensial 2 Volt yang ditunjukkan dengan tampilan deposit yang cemerlang, menempel kuat di katoda, dan memiliki permukaan rata.]]>
Copyrights © 2023
