<![CDATA[Kimia permukaan memainkan peran penting dalam pembentukan dan stabilitas sistem koloid melalui mekanisme adsorpsi, energi permukaan, dan interaksi elektrostatik yang memengaruhi kestabilan partikel pada skala nano hingga mikro. Sistem koloid, terdiri atas partikel berukuran 1-1000 nm, sangat dipengaruhi oleh gaya van der Waals, tolakan elektrostatik, dan sterik yang menentukan dispersi dan koagulasi partikel. Tinjauan literatur ini menganalisis temuan penelitian nasional terkait peran kimia permukaan dalam pembentukan koloid, pengaruh pH dan kekuatan ionik terhadap stabilitas, serta mekanisme adsorpsi surfaktan dan polimer sebagai agen stabilisasi. Metode yang digunakan adalah studi kualitatif terhadap jurnal nasional yang membahas fisika dan kimia permukaan serta aplikasinya pada industri pangan, farmasi, dan nanoteknologi. Hasil menunjukkan bahwa pengendalian aktivitas kimia permukaan dapat meningkatkan stabilitas koloid melalui pengaturan potensial zeta, modifikasi lapisan ganda listrik, dan pembentukan lapisan adsorpsi yang efektif. Pemahaman komprehensif tentang aktivitas kimia permukaan sangat penting untuk mengoptimalkan kestabilan sistem koloid dan pengembangan produk teknologi modern.]]>
Copyrights © 2025
