This Author published in this journals
All Journal Reaktor
Toto Winata
Program Studi Fisika FMIPA, Institut Teknologi Bandung Jl. Ganesha 10, Bandung, Jawa Barat, 40132

Published : 1 Documents Claim Missing Document
Claim Missing Document
Check
Articles

Found 1 Documents
Search

PENUMBUHAN LAPISAN TIPIS SILIKON MIKROKRISTAL TERHIDROGENASI DENGAN TEKNIK HWC-VHF-PECVD Ida Usman; Darwin Ismail; Heri Sutanto; Toto Winata
Reaktor Volume 13, Nomor 1, Juni 2010
Publisher : Dept. of Chemical Engineering, Diponegoro University

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | Full PDF (851.711 KB) | DOI: 10.14710/reaktor.13.1.31-36

Abstract

Telah dikembangkan teknik HWC-VHF-PECVD (Hot Wire Cell Very High Frequency Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) untuk menumbuhkan lapisan tipis silikon mikrokristal terhidrogenasi (mc-Si:H). Dari hasil penumbuhan lapisan tipis yang dilakukan, teknik HWC-VHF-PECVD memperlihatkan laju deposisi yang lebih tinggi dibandingkan laju deposisi lapisan tipis yang diperoleh dari teknik PECVD maupun teknik VHF-PECVD konvensional. Berdasarkan hasil pengukuran XRD dan SEM, lapisan yang diperoleh pada temperatur filamen yang rendah masih berstruktur amorf. Indikasi yang mengarah pada pembentukan lapisan tipis berstruktur mikrokristalin mulai terlihat pada temperatur filamen ≥ 500oC, dimana puncak-puncak di fraksi spektrum XRD untuk orientasi kristalin tertentu mulai terbentu, sejalan dengan pembentukan butiran-butiran kristalin dari hasil foto SEM permukaan lapisan-lapisan tersebut.