Article Per Year (5 Year)
p-Index From 2021 - 2026
0.408
P-Index
This Author published in this journals
All Journal Indonesian Journal of Education and Development Research AR-RUMMAN: Journal of Education and Learning Evaluation
Napitupulu, Dermawati
Unknown Affiliation
Education Languange, Linguistic, Communication & Media Mathematics Social Sciences Other

Published : 2 Documents Claim Missing Document
Claim Missing Document
Check
Articles

Found 1 Documents
Search
Journal : AR-RUMMAN: Journal of Education and Learning Evaluation

 1 
Peran Aktivitas Kimia Permukaan dalam Pembentukan dan Perilaku Sistem Koloid: Tinjauan Literatur Siregar, Amita M; Napitupulu, Dermawati; Sitorus, Meyla Isnaini; Salsabilah, Ridha; Syahfitri, Riyanda
AR-RUMMAN: Journal of Education and Learning Evaluation Vol 2, No 2 (2025): Desember 2025
Publisher : CV. Rayyan Dwi Bharata

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | DOI: 10.57235/arrumman.v2i2.7707

Abstract

Kimia permukaan memainkan peran penting dalam pembentukan dan stabilitas sistem koloid melalui mekanisme adsorpsi, energi permukaan, dan interaksi elektrostatik yang memengaruhi kestabilan partikel pada skala nano hingga mikro. Sistem koloid, terdiri atas partikel berukuran 1-1000 nm, sangat dipengaruhi oleh gaya van der Waals, tolakan elektrostatik, dan sterik yang menentukan dispersi dan koagulasi partikel. Tinjauan literatur ini menganalisis temuan penelitian nasional terkait peran kimia permukaan dalam pembentukan koloid, pengaruh pH dan kekuatan ionik terhadap stabilitas, serta mekanisme adsorpsi surfaktan dan polimer sebagai agen stabilisasi. Metode yang digunakan adalah studi kualitatif terhadap jurnal nasional yang membahas fisika dan kimia permukaan serta aplikasinya pada industri pangan, farmasi, dan nanoteknologi. Hasil menunjukkan bahwa pengendalian aktivitas kimia permukaan dapat meningkatkan stabilitas koloid melalui pengaturan potensial zeta, modifikasi lapisan ganda listrik, dan pembentukan lapisan adsorpsi yang efektif. Pemahaman komprehensif tentang aktivitas kimia permukaan sangat penting untuk mengoptimalkan kestabilan sistem koloid dan pengembangan produk teknologi modern.
Co-Authors Aritonang, Tiur Maida Jamaludin . Nadeak, Deola Agnes S Purba, Hendike Krisdayanti Salsabilah, Ridha Siagian, Yusi Yulfani Siregar, Amita M Sitorus, Meyla Isnaini Syahfitri, Riyanda Waruwu, Julia Putri Santi