<![CDATA[Kosmetik merupakan suatu bahan atau obat yang digunakan untuk mempercantik diri. Pada zaman modern saat ini, banyak ditemukan kosmetik dipasaran yang menggunakan bahan sintetik. Penggunaan bahan sintetik yang terus menerus akan menyebabkan masalah pada kesehatan. Melihat dari banyaknya komoditas tanaman pisang di Indonesia yang terus menerus semakin meningkat, peneliti tertarik untuk melakukan penelitian pada salah satu bagian dari tanaman pisang kepok. Daun pisang kepok (Musa paradisiaca L.) yang merupakan bagian dari tanaman pisang, diketahui mengandung senyawa antioksidan alami. Sebagai antioksidan yang terdapat pada daun pisang, senyawa aktif ini dapat ditambahkan pada sediaan masker, salah satunya adalah sediaan masker serbuk. Metode yang digunakan pada penelitian ini adalah metode eksperimental. Pada penelitian ini sebelum dilakukan pembuatan sediaan masker, diuji aktivitas antioksidan pada daun pisang dengan konsentrasi (40 %, 50 %, dan 60 %) menggunakan metode DPPH. Selanjutnya, dilakukan pembuatan sediaan dengan menggunakan Na CMC sebagai variasi konsentrasi pengikat untuk 3 formulasi (2%, 4%, dan 6%)]]>
Copyrights © 2024
