PENGARUH PENGOTOR Co PADA STRUKTUR DAN KONDUKTIVITAS FILM TIPIS TiO2

Aip Saripudin (Jurusan Pendidikan Teknik Elektro FPTK Universitas Pendidikan Indonesia Jl. Dr. Setiabudhi 207 Bandung)
Tjetje Gunawan (Jurusan Pendidikan Teknik Elektro FPTK Universitas Pendidikan Indonesia Jl. Dr. Setiabudhi 207 Bandung)
Yuda Muladi (Jurusan Pendidikan Teknik Elektro FPTK Universitas Pendidikan Indonesia Jl. Dr. Setiabudhi 207 Bandung)

ELECTRANS
Vol 12, No 1 (2013): Volume 12, Nomor 1, Tahun 2013

Film tipis TiO2 (titanium dioksida) dan Co:TiO2 (titanium dioksida yang dikotori oleh atom kobal) telah ditumbuhkan di atas substrat Si(100) menggunakan teknik MOCVD (metal organik chemical vapor deposition). Film masing-masing ditumbuhkan pada suhu substrat 450oC selama 120 menit dengan tekanan kamar reaktor 2 ´ 10-3 torr. Film TiO2 dan Co:TiO2 yang dihasilkan memiliki struktur kristal tetragonal (a = b = 4,7172 Å, c = 3,0063 Å) berfase rutil dengan orientasi dominan pada (002) dan ukuran bulir rata-rata 170 nm. Permukaan film cukup halus dan merata. Berdasarkan hasil pengukuran menggunakan metode Hall van der Pauww, terjadi perbedaan konduktivitas antara film TiO2 dan Co:TiO2.