cover
Article Per Year (5 Year)
All
Home Page
OAI Link
Editorial Team
Contact
Reviewer
Google Scholar
Contact Name
-
Contact Email
-
Phone
-
Journal Mail Official
ganendra@batan.go.id
Editorial Address
Jl. Babarsari Kotak Pos 6101 ykbb, Yogyakarta 55281
Location
Kota adm. jakarta selatan,
Dki jakarta
INDONESIA
Ganendra: Majalah IPTEK Nuklir
Published by Badan Tenaga Nuklir Nasional
ISSN : 14106957     EISSN : 25035029     DOI : https://doi.org/10.17146/gnd
Core Subject : Science, Education,
Computer Science & IT Other
Jurnal Iptek Nuklir Ganendra merupakan jurnal ilmiah hasil litbang dalam bidang iptek nuklir, diterbitkan oleh Pusat Teknologi Akselerator dan Proses Bahan (PTAPB) - BATAN Yogyakarta. Frekuensi terbit dua kali setahun setiap bulan Januari dan Juli.
Arjuna Subject : -
Articles 5 Documents
 1 
Search results for , issue "Volume 6 Nomor 1 Januari 2003" : 5 Documents clear
SIFAT MAGNETISASI DAN EFEK GMR PADA SISTEM LAPISAN TIPIS TOP SPIN VALVE NiFe/Cu/NiFe/NiO Tri Mardji Atmono
GANENDRA Majalah IPTEK Nuklir Volume 6 Nomor 1 Januari 2003
Publisher : Website

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | Full PDF (229.265 KB) | DOI: 10.17146/gnd.2003.6.1.197

Abstract

SIFAT MAGNETISASI DAN EFEK GMR PADA SISTEM LAPISAN TIPIS TOP SPIN VALVE NiFe/Cu/NiFe/NiO. Telah dilakukan preparasi dan karakteriasi sistem lapisan tipis yang yang membentuk top-spin-valve yang terdiri dari lapisan free layer NiFe I, spacer Cu, dan lapisan antiferromagnetik NiO yang mengikat lapisan magnetik NiFe II menjadi pinning layer. Lapisan dengan susunan tertentu yang membentuk sistem NiFe/Cu/NiFe/NiO tersebut telah berhasil dibuat dengan metoda sputtering, kemudian dilakukan karakterisasi. Pengukuran hubungan antara medan magnet dengan tahanan lapisan tipis menunjukkan hasil efek GMR yang signifikan, berkisar antara 0 - .4,5 %. Pengamatan kurva histerisis yang merupakan hubungan antara magnetisasi dengan medan luar menunjukkan suatu sstem yang terdiri dari free layer, pinning layer dan spacer. Hal ini merupakan realisasi dari sistem lapisan dengan sifat exchange-coupling seperti RKKY antar thin films. Dengan menggunakan Cu sebagai spacer, muncul efek antisimetris dari efek GMR yang kemungkinan disebabkan oleh anisotropi yang terjadi pada saat pertumbuhan thin film. Sifat tersebut diperkuat oleh adanya pengaruh medan luar H sebesar 50 Oe pada saat preparasi.. Efek magnetoresistance yang teramati merupakan GMR-ratio yang disebabkan oleh medan magnet luar, sehingga terjadi hamburan elektron pada batas antar lapisan.Pengukuran hiterisis menunjukkan “pinning” yang mengikat permaloy NiFeII secara antiferromagnetik pada lapisan NiO yang diikuti oleh pergeseran gaya koersitiv yang cukup besar, berkisar 30-75 gauss.
PENGUJIAN AWAL SISTEM INSTRUMENTASI & KENDALI UNIT VAKUM MESIN BERKAS ELEKTRON 350 keV/10 mA TIPE REMOTE MANUAL Sudiyanto Sudiyanto
GANENDRA Majalah IPTEK Nuklir Volume 6 Nomor 1 Januari 2003
Publisher : Website

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | Full PDF (120.485 KB) | DOI: 10.17146/gnd.2003.6.1.198

Abstract

INSTALASI SISTEM INSTRUMENTASI & KENDALI UNIT VAKUM MESIN BERKAS ELEKTRON 350 KeV/10 mA TIPE REMOTE MANUAL. Sedang diselesaikan instalasi Sistem Instrumentasi & Kendali (SIK) unit vakum Mesin Berkas Elektron (MBE) tipe remote manual. SIK ini terdiri dari bagian kendali manual jarak jauh dan bagian monitoring jarak jauh. Prinsip kendali manual jarak jauh (50 m) adalah dengan mengendalikan status on/off terminal sumber tegangan 220Volt untuk pompa dan valve. Pemilihan terminal 220 Volt untuk pompa dan valve diatur dari ruang kendali MBE (saklar penyedia daya untuk valve dan pompa diatur ON). Untuk monitoring jarak jauh tingkat kevakuman digunakan kamera CCT yang ditempatkan di depan pirani/penning gauge serta unit TPG.300 BALZER pompa turbo. Monitoring status valve terbuka/tertutup dilakukan dengan menarik kabel indikator LED dari setiap valve ke panel transrak 19 inchi di ruang kendali MBE. Pneumatic valve dilengkapi sistem pipa kompresi dengan unit kompresor dan tabung reservoir. Seluruh pneumatic valve (selain venting valve) dari tipe normaly closed. Sistem CCTV dilengkapi enam buah kamera, sebuah TV monitor dan unit multiplexer untuk memilih gambarnya. Salah satu kamera CCTV ditempatkan pada unit rotator, menggunakan kendali infra merah yang dapat diatur berputar ke kanan / kiri sesuai orientasi monitoring yang dipilih . Hasil uji coba awal menunjukan bahwa SIK tipe remote manual untuk unit vakum Mesin Berkas Elektron menunjukan kinerja baik.
SIMULASI TRANSPOR BERKAS ION DALAM AKSELERATOR SAMES J 2.5 Sigit Hariyanto
GANENDRA Majalah IPTEK Nuklir Volume 6 Nomor 1 Januari 2003
Publisher : Website

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | Full PDF (132.84 KB) | DOI: 10.17146/gnd.2003.6.1.199

Abstract

SIMULASI TRANSPOR BERKAS ION DALAM AKSELERATOR SAMES J 2.5. Telah dilakukan simulasi transpor berkas ion dalam akselerator SAMES j. 2.5 dengan program partikel berkas optik laboratory versi 1.1.1. Berkas ion untuk eksperimen APNC digunakan ion deuterium, keluar dari pemercepat tenaga 150 keV, amplop berkas dengan ruji ke arah horisontal X = 1,923 cm, sudut kemiringan X’ = 0,471 mRad dan ruji ke arah vertikal Y = 1,973 cm, sudut kemiringan Y’ = 0,4538 mRad. Keluaran berkas dari tabung pemercepat dilewatkan pada pemokus kuadrapol listrik, pemandu berkas dan ke target. Pembatasa peledaran berkas dipasang program “fitting” pada ujung pemandu dan target dengan ruji ke arah X,Y adalah 15mm dan 12mm Hasil simulasi program menunjukkan bahwa amplop berkas ke arah X, Y pada ujung pemandu adalah 13,16 mm dan 17mm, sedangkan pada target ruji berkas ke arah X, Y adalah 11,6 mm dan 13,4 mm. Koefisien kuadrapol listrik diperoleh 59,089 dan –74,6785 atau kalau dihitung tegangan listrik yang harus diberikan 2,77kV dan –3,5 kV. Untuk eksperimen PIXE keluaran berkas ion hydrogen dari tabung pemercepat dilewatkan pada kuadrapol listrik, pembelok magnet, kuadrapol magnet dan ke target. “Fitting” amplop berkas sebelum kuadrapol dengan ruji ke arah X dan Y 10mm dan pada target 1,5mm. Hasil perhitungan program diperoleh koefisien kuadrapol listrik 69,3056 dan –73,7274 atau pada tegangan 6,49 kV dan –6,22kV. Sedangkan besarnya medan magnet pada kuadrapol magnet adalah 0,51kG. dan -0,57 kG.
DESAIN DAN KONSTRUKSI CORONG PEMAYAR MESIN BERKAS ELEKTRON Suprapto Suprapto; Sudjatmoko Sudjatmoko; Setyo Atmodjo; Sukaryono Sukaryono; Sukidi Sukidi
GANENDRA Majalah IPTEK Nuklir Volume 6 Nomor 1 Januari 2003
Publisher : Website

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | Full PDF (96.598 KB) | DOI: 10.17146/gnd.2003.6.1.200

Abstract

DESAIN DAN KONSTRUKSI CORONG PEMAYAR MESIN BERKAS ELEKTRON. Telah dilakukan desain dan konstruksi corong pemayar mesin berkas elektron. Dalam mesin berkas elektron, corong pemayar digunakan untuk melewatkan berkas elektron. Agar dapat berfungsi dengan baik maka harus divakumkan sampai 10-6 mbar. Desain ini adalah untuk menentukan jenis dan demensi material dalam pengkonstruksian corong pemayar sehingga jika divakumkan tidak terjadi defleksi. Dari hasil desain dan konstruksi corong pemayar didapatkan hasil rancangan dalam bentuk gambar susunan dan detil serta konstruksi bagian-bagian corong pemayar untuk mesin berkas elektron. Menurut perhitungan untuk konstruksi corong pemayar digunakan bahan stainless steel 316 L. Agar didapatkan defleksi yang terjadi kurang dari 4 mm digunakan sirip penahan stainless steel 316 L dengan tebal 10 mm sebanyak 12 buah. Dalam konstruksinya untuk sirip penahan ke 7 sampai ke 12 digunakan stainless steel 316 L tebal 20 mm. Hasil pengujian menunjukkan bahwa defleksi maksimum terjadi pada sirip penahan ke 5 dan ke 10 yaitu sebesar 1 mm sehingga jauh lebih kecil dibanding yang direncanakan. Tingkat kevakuman akhir dengan pompa rotari saat masih terjadi kebocoran adalah 5×10-1 mbar dan setelah diperbaiki sehingga kebocoran tidak terjadi adalah 6,6×10-2 mbar. Pengujian tingkat kevakuman akhir dengan pompa difusi saat masih ada kebocoran tidak dapat dilakukan, sedangkan setelah diperbaiki sehingga tidak terjadi kebocoran adalah 5×10-4 mbar. Tingkat kevakuman akhir yang dapat dicapai baik dengan pompa rotari maupun pompa difusi hampir mendekati kemampuan pompa ratari dan pompa difusi yang digunakan.
PEMBUATAN LAPISAN TIPIS SILIKON AMORF TERHIDROGENASI (a-Si:H) UNTUK BAHAN SEL SURYA Wirjoadi Wirjoadi; Sudjatmoko Sudjatmoko; Yunanto Yunanto; Bambang Siswanto; Sri Sulamdari
GANENDRA Majalah IPTEK Nuklir Volume 6 Nomor 1 Januari 2003
Publisher : Website

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | Full PDF (153.336 KB) | DOI: 10.17146/gnd.2003.6.1.201

Abstract

PEMBUATAN LAPISAN TIPIS SILIKON AMORF TERHIDROGENASI (a-Si:H) UNTUK BAHAN SEL SURYA. Telah dilakukan pembuatan lapisan tipis silikon amorf terhidrogenasi (a-Si:H) untuk bahan sel surya. Lapisan tipis silikon amorf telah diketahui dan dapat dibuat, akan tetapi bahan lapisan tipis tersebut tidak dapat dimanfaatkan sebagai piranti elektronik. Pengontrolan valensi semi konduktor telah membuka jalan untuk pemanfaatan bahan tersebut untuk piranti-piranti elektro-nik terutama untuk piranti lapisan tipis photovoltaic, karena piranti photovoltaic seperti sel surya membutuhkan luasan aktif yang sangat besar untuk pengumpulan energi surya. Dalam penelitian ini deposisi lapisan tipis silikon amorf terhidrogenasi (a-Si:H) dilakukan dengan metode sputtering pada beberapa variasi parameter, yaitu suhu substrat, tekanan gas dan lama waktu deposisi untuk mendapatkan sifat listrik, terutama nilai resistivitas lapisan optimum. Berdasarkan perhitungan dan analisa data pengukuran dengan probe empat titik, maka lapisan tipis silikon amorf diperoleh hasil nilai resistansi sebesar R = (1,68 ± 0,02) MΩ, nilai resistivitas ρ = (1,80 ± 0,05) Ωm dan nilai konduktivitas σ = (0,57 ± 0,02) Ω-1m-1, yang ini diperoleh pada kondisi suhu 300 oC, tekanan gas 7 x 10-2 torr, waktu deposisi 1,5 jam. Sedangkan hasil untuk lapisan tipis silikon amorf terhidrogenasi (a-Si:H) diperoleh nilai resistansi optimum sebesar R = 1349,66 MΩ, pada suhu 300 oC, tekanan gas 3,8 x 10-2 torr dan waktu deposisi 1,5 jam.

Page 1 of 1 | Total Record : 5

 1 

Filter by Year

2003 2003


Reset
Filter By Issues
All Issue Volume 26 Nomor 2, 2023 Volume 26 Nomor 1, 2023 Volume 24 Nomor 2 Juli 2021 Volume 24 Nomor 1 Januari 2021 Volume 23 Nomor 2 Juli 2020 Volume 23 Nomor 1 Januari 2020 Volume 22 Nomor 2 Juli 2019 Volume 22 Nomor 1 Januari 2019 Volume 21 Nomor 2 Juli 2018 Volume 21 Nomor 1 Januari 2018 Volume 20 Nomor 2 Juli 2017 Volume 20 Nomor 1 Januari 2017 Volume 19 Nomor 2 Juli 2016 Volume 19 Nomor 1 Januari 2016 Vol 18, No.2 (2015) Volume 18 Nomor 1 Januari 2015 Volume 17 Nomor 2 Juli 2014 Volume 17 Nomor 1 Januari 2014 Volume 16 Nomor 2 Juli 2013 Volume 16 Nomor 1 Januari 2013 Volume 15 Nomor 2 Juli 2012 Volume 15 Nomor 1 Januari 2012 Volume 14 Nomor 2 Juli 2011 Volume 14 Nomor 1 Januari 2011 Volume 13 Nomor 2 Juli 2010 Volume 13 Nomor 1 Januari 2010 Volume 12 Nomor 2 Juli 2009 Volume 12 Nomor 1 Januari 2009 Volume 11 Nomor 2 Juli 2008 Volume 11 Nomor 1 Januari 2008 Volume 10 Nomor 2 Juli 2007 Vomor 10 Nomor 1 Januari 2007 Volume 9 Nomor 2 Juli 2006 Volume 9 Nomor 1 Januari 2006 Volume 8 Nomor 2 Juli 2005 Volume 8 Nomor 1 Januari 2005 Volume 7 Nomor 2 Juli 2004 Volume 7 Nomor 1 Januari 2004 Volume 6 Nomor 2 Juli 2003 Volume 6 Nomor 1 Januari 2003 Volume 5 Nomor 2 Juli 2002 Volume 5 Nomor 1 Januari 2002 More Issue