Claim Missing Document
Check
Articles

Found 11 Documents
Search

Analisis pH Level pada Purwarupa Alat Monitoring pH Level Secara Real-time Sebagai Optimalisasi Proses Nickel Plating di Industri Ramadhan, Rahmat Ersya; Ika Karlina Laila Nur Suciningtyas; Sani, Abdullah; Yusiran
Techné : Jurnal Ilmiah Elektroteknika Vol. 24 No. 2 (2025)
Publisher : Fakultas Teknik Elektronika dan Komputer Universitas Kristen Satya Wacana

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | DOI: 10.31358/techne.v24i2.604

Abstract

Nickel plating adalah metode penting untuk meningkatkan ketahanan korosi dan performa produk, terutama dalam pembuatan lampu medis di PT XYZ. Masalah utama dalam proses ini adalah menjaga kestabilan pH larutan, yang sebelumnya dipantau secara manual dan rentan terhadap fluktuasi yang ekstrem. Untuk mengatasi masalah ini, penelitian ini membuat dan mengimplementasikan analisis pH level serta alat monitoring pH real-time yang merekam data secara kontinu, memberikan alarm saat pH keluar dari rentang spesifikasi, dan menampilkan data historis melalui antarmuka web. Hasil pengujian menunjukkan akurasi tinggi dengan rata-rata error kurang dari 2% dan peningkatan efisiensi waktu sebesar 93.75% dibandingkan metode manual. Hasil analisis Pearson correlation menunjukkan tidak ada hubungan signifikan antara waktu dan pH. Analisis I-MR chart pada empat tank mengungkapkan variasi stabilitas pH, dengan tank 10C menunjukkan performa terbaik, sementara tank 10B memerlukan perhatian khusus akibat ketidakstabilan tinggi.